Réacteur PVD hybride
Description
L’équipement PVD hybride (Physical Vapor Deposition) est destiné aux traitements par procédés sous vide et plus particulièrement l’élaboration de revêtements métalliques ou céramiques par pulvérisation cathodique magnétron et par procédé PECVD (Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition). Il permet la réalisation de revêtements à des températures proches de la température ambiante.
Localisation
UTT/LASMIS/Antenne de Nogent
Contacts
Responsables de la plateforme : Soufyane ACHACHE
Coordonnateur du projet ciblé associé : Fanny BALBAUD
Caractéristiques techniques
Il s’agit d’une machine de dépôts sous basse pression pouvant déposer à partir de 4 cibles (diamètre 200 mm) simultanément (Figure 1). Les principales caractéristiques sont :
– Vide limite : secondaire, pression < 3.10-6 mbar
– Quatre cathodes pour sources de diamètre 200 mm
– Quatre alimentations DC/DC pulsé 3kW
– Une alimentation HIPIMS
– Une alimentation RF pour la polarisation du porte substrat
– Un plateau tournant (vitesse variable jusqu’à 20 tr/min).
– Six lignes de gaz entièrement équipées (Ar, O2, CH4, N2, C6H12 etSi(CH3)4)
Projet ciblé associé
