Réacteur de PVD TriProS
Description
Le réacteur PVD TriProS est une installation industrielle de dépôt de couches minces à partir de plasmas fortement ionisés (HiPIMS ; High-power Impulse Magnetron Sputtering, PVD-Arc en option). Elle est notamment équipée de 4 sources de grandes dimensions et d’un porte-substrat 3 rotations.
Localisation
UTT/LASMIS/Antenne de Nogent
Contacts
Responsable de la plateforme : Frédéric SANCHETTE
Caractéristiques techniques
La machine TriProS 2, nom donné à l’origine pour tri-process (HiPIMS, PECVD et ARC cathodique). Ce réacteur, entièrement piloté avec une interface conviviale est réalisée sur la base d’un cubical 750 de chez Pfeiffer. Pour la partie PVD, cette équipement, qui dispose de 4 cathodes montées en champ fermé, permet de travailler :
⦁ En DC-Pulse avec un générateur Advanced Energy Pinnacle Plus+ Dual (2x5kW),
⦁ En HPPMS unipolaire sur 2 canaux maximum avec 2 pulsers
⦁ En HPPMS bipolaire sur les quatre cathodes en même temps et toujours avec des pulsers
Le porte substrat est alimenté par un Pulser de 5kW modifié pour être monté à 50kHz. Il est donc possible de polariser les pièces en fréquence (ou juste en DC) mais aussi de produire des pics de courant pour travailler en HPPMS CVD.
Il y a 7 lignes de gaz : Ar, N2, O2, H2, TMS, C6H12 et HMDS.
