PVD combinatoire
Description
La plate-forme de synthèse combinatoire par PVD correspond à un équipement de pulvérisation cathodique magnétron dont l’achat est financé dans le cadre de HIWAY-2-MAT. L’installation de l’équipement, de marque Plassys-Bestek, est planifiée pour décembre 2024. Il s’agit de co-pulvériser simultanément 3 matériaux de cibles (A, B, C), placées sur des cathodes, dont l’inclinaison est modulable individuellement de façon automatisée. Cette technique vise à déposer un film mince présentant un gradient de composition continu entre 3 zones distinctes, riches en A, B ou C, situées en périphérie de substrat. Elle offre l’avantage de pouvoir explorer un vaste champ de compositions sur un même substrat, jusqu’à 100 mm de diamètre, en une seule expérience de dépôt. L’équipement a été conçu pour pouvoir déposer des matériaux aussi bien isolants type oxydes, que des matériaux métalliques.
Localisation
CEA Tech Pessac (Bordeaux).
Contacts
Responsables de la plateforme : Gunay YILDIRIM
Coordonnateur du projet ciblé associé : Guilhem DEZANNEAU
Caractéristiques techniques
Le poste de dépôt est constitué de 3 cathodes dimensionnées pour accueillir des cibles de 50 mm de diamètre. Les cathodes peuvent être alimentées par 3 générateurs radio-fréquence (RF) ou par 3 générateurs en courant continu (DC). L’équipement offre également la possibilité d’utiliser 3 alimentations de type HiPIMS (High Power Impulse Magnetron sputtering). L’inclinaison de chaque cathode est pilotable individuellement par réglage motorisé des tilts, sans avoir à ouvrir la chambre de dépôt sous vide.
Le porte-substrat placé au-dessus des 3 cathodes permet d’accueillir un substrat jusqu’à 100 mm de diamètre. La distance entre le porte-substrat et le groupe de 3 cathodes est ajustable. Le substrat pourra être chauffé jusqu’à une température maximale de 650°C. Le porte-substrat est également polarisable en RF. Enfin, il est motorisé en rotation ; il peut être placé à une position angulaire fixée avant le dépôt.
Un SAS, semi-automatique, monoplaque permet le chargement et le déchargement rapides du substrat sans avoir à ouvrir la chambre de dépôt sous vide.
En plus de l’équipement de PVD combinatoire, un monochromateur a été acheté pour compléter la configuration d’un diffractomètre de rayons X (Rigaku Smart Lab XE 9kW, localisé à l’ICMCB, contact aline.rougier@icmcb.cnrs.fr) permettant la réalisation de mesures de microdiffraction automatisées de bibliothèques d’échantillons sur un substrat de 10 x 10 cm².
Projet ciblé associé
