Equipement Atm-PECVD

Le dispositif de dépôt est composé d’une torche plasma couplée avec un système d’injection liquide. Le liquide comporte un solvant et un précurseur formant une solution. Cette solution est injectée et nébulisée au-dessus du substrat dans l’émission plasma. Le plasma permet une meilleure réactivité du précurseur avec le substrat. Cela ouvre la possibilité de réaliser des revêtements à plus basse température que lors d’une CVD classique. La température du substrat peut varier depuis la température ambiante jusqu’à quelques centaines de °C lors du dépôt. La température est définie en fonction du précurseur, du substrat et de la vitesse de dépôt souhaitée. La figure 1 présente un schéma de principe de la torche et du dispositif d’injection. Le système de dépôt est relié à un robot qui permet de revêtir un substrat de 50 cm  50 cm de forme complexe.

Il est possible de développer, avec cet équipement, des revêtements de nitrures et d’oxydes. Un dépôt d’oxydes ou de nitrures mixtes est aussi possible.